通過以下方式縮小結(jié)果范圍
中心/邊緣/陷波波長
滑動條范圍
條件：
晶圓鍍膜具有高度穩(wěn)定工藝重復(fù)性：≤±0.3%；片內(nèi)均勻性: ≤±0.5%（單個8英寸晶圓片內(nèi)， R≤90mm ），表面質(zhì)量高等優(yōu)勢。
編號：
晶圓鍍膜具有高度穩(wěn)定工藝重復(fù)性：≤±0.3%；片內(nèi)均勻性: ≤±0.5%（單個8英寸晶圓片內(nèi)， R≤90mm ），表面質(zhì)量高等優(yōu)勢。
編號：
晶圓鍍膜具有高度穩(wěn)定工藝重復(fù)性：≤±0.3%；片內(nèi)均勻性: ≤±0.5%（單個8英寸晶圓片內(nèi)， R≤90mm ），表面質(zhì)量高等優(yōu)勢。
編號：
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